{"id":7103,"date":"2024-10-29T20:57:50","date_gmt":"2024-10-29T19:57:50","guid":{"rendered":"https:\/\/plasmadiam.com\/products\/euv-ezenith-regis\/"},"modified":"2025-01-09T14:26:52","modified_gmt":"2025-01-09T13:26:52","slug":"euv-ezenith-regis","status":"publish","type":"vacuum-pumps","link":"https:\/\/plasmadiam.com\/de\/produkte\/euv-ezenith-regis\/","title":{"rendered":"EUV EZenith Regis"},"content":{"rendered":"\t\t
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EUV EZenith Regis<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Maximierung der SubFab-Verf\u00fcgbarkeit<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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\n\t\t\t\t\t\t\t\t\tIn der schnelllebigen, vernetzten Welt von heute verstehen wir die Notwendigkeit, die Produktivit\u00e4t unserer Kunden zu maximieren. Wir tun dies, indem wir sicherstellen, dass ihre Technologie als Erste auf den Markt kommt, w\u00e4hrend wir uns weiterhin bem\u00fchen, die Risiken und Umweltprobleme zu reduzieren, die der Herstellungsprozess mit sich bringen kann. \t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t
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Unterst\u00fctzung der Produktivit\u00e4t unserer Kunden<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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Die integrierten L\u00f6sungen von Edwards ber\u00fccksichtigen den gesamten Bedarf des Kunden an Vakuum- und Abgasmanagement, basierend auf unserer weltweiten Erfahrung und den fortschrittlichsten Technologien in diesem Bereich. Unsere integrierten Systeme bieten die Vorteile der Wiederholbarkeit von Produkten und Dienstleistungen sowie der Platzersparnis. Sie verbessern die Produktivit\u00e4t, die Sicherheit und die Umweltvertr\u00e4glichkeit. Unsere integrierten Systeme bieten auch direkte Vorteile wie schnellere Installation und Einrichtung, Gr\u00f6\u00dfenvorteile und verbesserte Sicherheit. <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t

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EZENITH<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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EZENITH bietet ein fortschrittliches Portfolio an Systemen, die vollst\u00e4ndig integrierte Vakuum- und Abgasmanagementl\u00f6sungen f\u00fcr alle Ihre Anwendungen in der Halbleiterindustrie bieten. EZENITH-Systeme sind einzigartig in ihrem Angebot: <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tProzessorientiertes Vakuum- und Abgasmanagement<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tVollst\u00e4ndige Integration von Komponenten<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tUnterst\u00fctzung jeder Funktion durch eine leistungsstarke, integrierte Steuerungsschnittstelle<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tEntwickelt f\u00fcr effiziente Raumnutzung - f\u00fcr Einsparungen von bis zu 70%<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tVollst\u00e4ndige interne Verteilung, Regulierung und \u00dcberwachung von Diensten, die den Stromverbrauch um mehr als 60% senken und gleichzeitig einen reibungslosen und zuverl\u00e4ssigen Betrieb gew\u00e4hrleisten<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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    Mit nur einer Pumpe und einem Gasentfernungsger\u00e4t sind Sie noch nicht bereit, Ihren Prozess zu starten. Sie m\u00fcssen die Pumpenabsaugung anschlie\u00dfen, Ihre Leitungsheizungen anschlie\u00dfen, Wasser-, Sp\u00fcl- und Stromleitungen verlegen und dann alle Steuersignale vorbereiten. Au\u00dferdem m\u00fcssen Sie sich Gedanken \u00fcber eine doppelte Einhausung, die Erkennung von Gaslecks und die Art und Weise machen, wie Sie nach der Wartung Ihrer Ger\u00e4te Leckpr\u00fcfungen durchf\u00fchren wollen. All diese Dinge kosten Sie Entwicklungszeit und Geld. Wir verstehen das Problem und haben daher integrierte, prozessspezifische L\u00f6sungen entwickelt. <\/p>\n

    Unsere integrierten Systeme sind bereits f\u00fcr die meisten Halbleiterprozesse vordefiniert. Die Abluftheizungen sind auf die richtige Temperatur eingestellt, um die Kosten zu minimieren und die Betriebszeit zu maximieren. Wir bringen Leckagekontrollanschl\u00fcsse und Absperrschieber dort an, wo sie ben\u00f6tigt werden. Das gesamte System ist gekapselt und, was am wichtigsten ist, Sie m\u00fcssen nur eine der erforderlichen Versorgungseinrichtungen bereitstellen. Wir verteilen die Gase, das Wasser, den Strom und die Steuersignale dort, wo sie ben\u00f6tigt werden, und erstellen ein betriebsbereites System. <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t

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    EUV<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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    Das innovative Verfahren der Extrem-Ultraviolett-Lithographie, das in seiner Kurzform als EUVL oder EUV bekannt ist, ist die Lithographie-Technologie der n\u00e4chsten Generation, die f\u00fchrende Halbleiterhersteller bei der Herstellung der fortschrittlichsten Halbleiterkomponenten einsetzen wollen. Diese Technologie ist von historischer Bedeutung, da sie die weitere Ausdehnung des Mooreschen Gesetzes erm\u00f6glicht. Die unmittelbare Herausforderung f\u00fcr EUV ist die Betriebszeit der Werkzeuge. Unsere vollst\u00e4ndig integrierte Sub-Fab-L\u00f6sung wird der EUV-Lithografie-Fertigung erhebliche Vorteile bringen. Mit mehr als 10 Jahren Erfahrung in der EUV-Fertigung in der Sub-Fab-Perspektive streben wir mit unseren innovativen, f\u00fchrenden Technologiel\u00f6sungen und Systemisierungskapazit\u00e4ten weiterhin danach, eine maximale Betriebszeit und Ausbeute des EUV-Prozesses in einer sicheren Umgebung zu erm\u00f6glichen. <\/p>\n

    Wir verstehen die Herausforderungen<\/b><\/p>\n

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    • Risikomanagement<\/li>\n<\/ul>\n

      Nutzung unserer globalen Erfahrung f\u00fcr den Erfolg unserer Kunden<\/p>\n

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      • Energieeinsparung<\/li>\n<\/ul>\n

        H\u00f6here Str\u00f6me bedeuten nicht gleich gr\u00f6\u00dfere Werkzeuge<\/p>\n

        Recycling\/Wiederverwendung<\/p>\n

          \n
        • Skalierung<\/li>\n<\/ul>\n

          Die F\u00e4higkeit und Erfahrung, sich an die Anforderungen der Kunden anzupassen. Doppelte Fl\u00fcsse bedeuten nicht die Verdoppelung der Gr\u00f6\u00dfe des systemerfahrenen Produktunternehmens, der Kundenteams, des Service-Supports und der globalen Expertise <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

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          REGIS<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
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          Regis (Reactive Gas Inject System) ist ein chemisch reagierendes System, das mit Hilfe der Remote-Plasma-Technologie die Lebensdauer der Pumpe verl\u00e4ngert.<\/p>\n

          Die neueste Generation der Regis zeichnet sich durch eine einzigartige Reaktionskammer aus, die sicherstellt, dass Prozessgase effizient umgesetzt werden, bevor sie in die Pumpe gelangen. Dadurch wird die Lebensdauer der Pumpe auf mehr als 300 Tage verl\u00e4ngert.<\/p>\n

          Im Vergleich zur vorherigen Regis-Generation wurde die Stellfl\u00e4che um 26,5% reduziert. Das neue Regis-System in Verbindung mit den trockenen Vakuumpumpen der Serie f\u00fcr den harten Einsatz bietet maximale Pumpenbetriebszeit und Prozessstabilit\u00e4t f\u00fcr eine Reihe von Prozessen. <\/p>\n

          Merkmale und Vorteile:<\/p>\n

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          • Niedrige Betriebskosten:<\/li>\n<\/ul>\n

            ReGIS verl\u00e4ngert die Lebensdauer der Pumpe auf 300 Tage oder mehr<\/p>\n

            Optimierter NF3-Fluss mit Hilfe von FTIR-Studien zur Minimierung von CoO.<\/p>\n

            Die Reaktionseffizienz wurde durch das neue Design der Reaktionskammer um 100% erh\u00f6ht.<\/p>\n

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            • Maximiert die Betriebszeit der Ger\u00e4te:<\/li>\n<\/ul>\n

              On-line Dauerbetrieb.<\/p>\n

              Geringere Ausfallzeiten aufgrund h\u00e4ufiger Pumpenwechsel.<\/p>\n

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              • Vollst\u00e4ndig geschlossenes System mit integrierter Schrankabsaugung.<\/li>\n<\/ul>\n
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                • PLC-gesteuert:<\/li>\n<\/ul>\n

                  Werkzeugsignalsteuerung ReGIS Plasmaz\u00fcndung m\u00f6glich.<\/p>\n

                  Verbesserte Sicherheit.<\/p>\n

                  Vollst\u00e4ndige System\u00fcberwachung.<\/p>\n

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                  • Erm\u00f6glicht Prozessstabilit\u00e4t:<\/li>\n<\/ul>\n

                    Keine Leistungseinbu\u00dfen.<\/p>\n

                    Keine Ver\u00e4nderung der Leitf\u00e4higkeit.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n

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