{"id":7099,"date":"2024-10-29T20:57:50","date_gmt":"2024-10-29T19:57:50","guid":{"rendered":"https:\/\/plasmadiam.com\/products\/registre-euv-ezenith\/"},"modified":"2025-01-09T14:26:52","modified_gmt":"2025-01-09T13:26:52","slug":"registre-euv-ezenith","status":"publish","type":"vacuum-pumps","link":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/produits\/registre-euv-ezenith\/","title":{"rendered":"Registre EUV EZenith"},"content":{"rendered":"\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t
\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t
\n\t\t
\n\t\t
Accueil<\/a><\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"\"\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Registre EUV EZenith<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Maximiser la disponibilit\u00e9 des sous-ensembles<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\tDans le monde connect\u00e9 et en \u00e9volution rapide d’aujourd’hui, nous comprenons la n\u00e9cessit\u00e9 de maximiser la productivit\u00e9 de nos clients. Pour ce faire, nous veillons \u00e0 ce que leur technologie soit la premi\u00e8re \u00e0 \u00eatre commercialis\u00e9e, tout en continuant \u00e0 nous efforcer de r\u00e9duire les risques et les d\u00e9fis environnementaux que le processus de fabrication peut entra\u00eener. \t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Soutenir la productivit\u00e9 de nos clients<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Les solutions int\u00e9gr\u00e9es d’Edwards \u00e9valuent l’ensemble des besoins du client en mati\u00e8re de gestion du vide et de l’\u00e9chappement, sur la base de notre exp\u00e9rience globale et des technologies les plus avanc\u00e9es du secteur. Nos syst\u00e8mes int\u00e9gr\u00e9s offrent les avantages d’une r\u00e9p\u00e9tabilit\u00e9 des produits et des services et d’un gain de place. Ils am\u00e9liorent la productivit\u00e9, la s\u00e9curit\u00e9 et la protection de l’environnement. Nos syst\u00e8mes int\u00e9gr\u00e9s offrent \u00e9galement les avantages directs d’une installation et d’une mise en place plus rapides, d’\u00e9conomies d’\u00e9chelle et d’une s\u00e9curit\u00e9 accrue. <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

EZENITH<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

EZENITH propose une gamme de syst\u00e8mes avanc\u00e9s offrant des solutions enti\u00e8rement int\u00e9gr\u00e9es de gestion du vide et de l’\u00e9chappement pour toutes vos applications dans le domaine des semi-conducteurs. Les syst\u00e8mes EZENITH sont uniques en leur genre : <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tGestion du vide et de l'\u00e9chappement ax\u00e9e sur les processus<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tInt\u00e9gration compl\u00e8te des composants<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tPrise en charge de chaque fonction par une puissante interface de contr\u00f4le int\u00e9gr\u00e9e<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tCon\u00e7u pour une utilisation efficace de l'espace - pour des \u00e9conomies allant jusqu'\u00e0 70%.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t\t\t
  • \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\n\t\t\t\t\t\t\t<\/polygon><\/g><\/svg>\t\t\t\t\t\t<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\tDistribution interne compl\u00e8te, r\u00e9gulation et contr\u00f4le des services r\u00e9duisant les raccordements aux services publics de plus de 60 % tout en garantissant un fonctionnement fluide et fiable.<\/span>\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/li>\n\t\t\t\t\t\t<\/ul>\n\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

    Avec seulement une pompe et un dispositif de r\u00e9duction des gaz, vous n’\u00eates pas encore pr\u00eat \u00e0 faire fonctionner votre proc\u00e9d\u00e9. Vous devrez raccorder l’\u00e9chappement de la pompe, connecter vos r\u00e9chauffeurs de ligne si n\u00e9cessaire, faire passer vos lignes d’eau, de purge et d’\u00e9lectricit\u00e9, puis pr\u00e9parer tous vos signaux de contr\u00f4le. Vous devrez \u00e9galement tenir compte de la double enceinte, de la d\u00e9tection des fuites de gaz et de la mani\u00e8re dont vous souhaitez effectuer les contr\u00f4les d’\u00e9tanch\u00e9it\u00e9 apr\u00e8s l’entretien de votre outil. Tous ces \u00e9l\u00e9ments vous co\u00fbteront du temps de conception et de l’argent. Nous comprenons le probl\u00e8me et nous avons donc d\u00e9velopp\u00e9 des solutions int\u00e9gr\u00e9es et sp\u00e9cifiques au processus. <\/p>\n

    Nos syst\u00e8mes int\u00e9gr\u00e9s sont d\u00e9j\u00e0 pr\u00e9con\u00e7us pour la plupart des proc\u00e9d\u00e9s de fabrication de semi-conducteurs. Les r\u00e9chauffeurs d’\u00e9chappement sont r\u00e9gl\u00e9s \u00e0 la bonne temp\u00e9rature pour minimiser les co\u00fbts et maximiser le temps de fonctionnement. Nous pla\u00e7ons des orifices de contr\u00f4le des fuites et des robinets-vannes l\u00e0 o\u00f9 ils sont n\u00e9cessaires. L’ensemble du syst\u00e8me est ferm\u00e9 et, surtout, vous ne devez fournir qu’un seul exemplaire de chacun des \u00e9quipements n\u00e9cessaires. Nous distribuons les gaz, l’eau, l’\u00e9lectricit\u00e9 et les signaux de commande l\u00e0 o\u00f9 ils sont n\u00e9cessaires et cr\u00e9ons un syst\u00e8me pr\u00eat \u00e0 l’emploi. <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t

    \n\t\t\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t
    \n\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"\"\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t

    EUV<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t
    \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

    Le processus innovant de lithographie dans l’ultraviolet extr\u00eame, connu sous sa forme abr\u00e9g\u00e9e EUVL ou EUV, est la technologie de lithographie de la prochaine g\u00e9n\u00e9ration que les principaux fabricants de puces \u00e0 semi-conducteurs pr\u00e9voient d’utiliser pour la fabrication des composants de semi-conducteurs les plus avanc\u00e9s. Cette technologie rev\u00eat une importance historique, car elle permet l’extension continue de la loi de Moore. Le d\u00e9fi imm\u00e9diat pour l’EUV est le temps de fonctionnement de l’outil. Notre solution sub fab enti\u00e8rement int\u00e9gr\u00e9e apportera des avantages significatifs \u00e0 la fabrication par lithographie EUV. Avec plus de 10 ans d’exp\u00e9rience dans la mise en \u0153uvre de l’EUV du point de vue des sous-fabriques, nos solutions technologiques innovantes et nos capacit\u00e9s de syst\u00e9matisation continuent de s’efforcer d’assurer un temps de fonctionnement et un rendement maximum du processus EUV dans un environnement g\u00e9r\u00e9 et s\u00fbr. <\/p>\n

    Nous comprenons parfaitement les d\u00e9fis<\/b><\/p>\n

      \n
    • Gestion des risques<\/li>\n<\/ul>\n

      Utiliser notre exp\u00e9rience mondiale pour assurer le succ\u00e8s de nos clients<\/p>\n

        \n
      • Conservation de l’\u00e9nergie<\/li>\n<\/ul>\n

        Des d\u00e9bits plus \u00e9lev\u00e9s ne signifient pas des outils plus grands<\/p>\n

        Recyclage\/r\u00e9utilisation<\/p>\n

          \n
        • Mise \u00e0 l’\u00e9chelle<\/li>\n<\/ul>\n

          La capacit\u00e9 et l’exp\u00e9rience n\u00e9cessaires pour s’adapter aux demandes des clients. Le doublement des flux ne signifie pas le doublement de la taille de l’entreprise de produits exp\u00e9riment\u00e9s, des \u00e9quipes charg\u00e9es des comptes, du support de service et de l’expertise mondiale. <\/p>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

          \n\t\t\t
          \n\t\t\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"\"\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t\t

          REGIS<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t
          \n\t\t\t\t\t\t\t\t\t
          \n
          \n

          Regis (Reactive Gas Inject System) est un syst\u00e8me de r\u00e9action chimique qui utilise la technologie du plasma \u00e0 distance pour augmenter la dur\u00e9e de vie des pompes.<\/p>\n

          La derni\u00e8re g\u00e9n\u00e9ration de Regis est dot\u00e9e d’une chambre de r\u00e9action unique qui garantit que les gaz de proc\u00e9d\u00e9 r\u00e9agissent efficacement avant d’entrer dans la pompe, ce qui prolonge la dur\u00e9e de vie de la pompe jusqu’\u00e0 plus de 300 jours.<\/p>\n

          Par rapport \u00e0 la g\u00e9n\u00e9ration pr\u00e9c\u00e9dente de Regis, l’encombrement a \u00e9t\u00e9 r\u00e9duit de 26,5 %. Le nouveau syst\u00e8me Regis, associ\u00e9 \u00e0 des pompes \u00e0 vide s\u00e8ches \u00e0 usage intensif, offre un temps de fonctionnement maximal de la pompe et une stabilit\u00e9 du processus pour une s\u00e9rie de proc\u00e9d\u00e9s. <\/p>\n

          Caract\u00e9ristiques et avantages :<\/p>\n

            \n
          • Faible co\u00fbt de possession :<\/li>\n<\/ul>\n

            ReGIS prolonge la dur\u00e9e de vie de la pompe jusqu’\u00e0 300 jours ou plus.<\/p>\n

            Optimisation du flux de NF3 \u00e0 l’aide d’\u00e9tudes FTIR pour minimiser le CoO.<\/p>\n

            L’efficacit\u00e9 de la r\u00e9action a \u00e9t\u00e9 augment\u00e9e de 100 % gr\u00e2ce \u00e0 la nouvelle conception de la chambre de r\u00e9action.<\/p>\n

              \n
            • Maximise le temps de fonctionnement de l’outil :<\/li>\n<\/ul>\n

              Fonctionnement continu en ligne.<\/p>\n

              R\u00e9duction des temps d’arr\u00eat de l’outil dus aux remplacements fr\u00e9quents de la pompe.<\/p>\n

                \n
              • Syst\u00e8me enti\u00e8rement ferm\u00e9 avec port d’extraction de l’armoire inclus.<\/li>\n<\/ul>\n
                  \n
                • Contr\u00f4l\u00e9 par PLC :<\/li>\n<\/ul>\n

                  Contr\u00f4le du signal de l’outil ReGIS Capacit\u00e9 d’allumage du plasma.<\/p>\n

                  S\u00e9curit\u00e9 renforc\u00e9e.<\/p>\n

                  Surveillance compl\u00e8te du syst\u00e8me.<\/p>\n

                    \n
                  • Permet la stabilit\u00e9 du processus :<\/li>\n<\/ul>\n

                    Aucune perte de performance.<\/p>\n

                    Aucune modification de la conductance.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n

                    \n
                    <\/div>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t<\/section>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t","protected":false},"featured_media":6036,"parent":0,"template":"","pumps-category":[109],"class_list":["post-7099","vacuum-pumps","type-vacuum-pumps","status-publish","has-post-thumbnail","hentry","pumps-category-solutions-integrees"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/vacuum-pumps\/7099","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/vacuum-pumps"}],"about":[{"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/types\/vacuum-pumps"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/vacuum-pumps\/7099\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media\/6036"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=7099"}],"wp:term":[{"taxonomy":"pumps-category","embeddable":true,"href":"https:\/\/plasmadiam.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/pumps-category?post=7099"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}