In der heutigen schnelllebigen, vernetzten Welt verstehen wir die Notwendigkeit, die Produktivität unserer Kunden zu maximieren. Wir tun dies, indem wir sicherstellen, dass ihre Technologie die erste auf dem Markt ist, während wir uns weiterhin bemühen, die Risiken und Umweltprobleme zu reduzieren, die der Herstellungsprozess mit sich bringen kann.
Die integrierten Lösungen von Edwards bewerten den gesamten Vakuum- und Abgasmanagementbedarf des Kunden auf der Grundlage unserer globalen Erfahrung mit den fortschrittlichsten Technologien der Branche. Unsere integrierten Systeme bieten die Vorteile der Produkt- und Servicewiederholbarkeit und Platzersparnis. Sie sorgen für verbesserte Produktivität, Sicherheit und Umweltsicherheit. Unsere integrierten Systeme bieten auch direkte Vorteile einer schnelleren Installations- und Einrichtungsgeschwindigkeit, Skaleneffekten und verbesserter Sicherheit.
EZENITH bietet ein fortschrittliches Portfolio an Systemen, die vollständig integrierte Vakuum- und Abgasmanagementlösungen für alle Ihre Halbleiterprozessanwendungen bieten. EZENITH-Systeme sind einzigartig im Angebot:
Mit nur einer Pumpe und einem Gasminderungsgerät sind Sie noch nicht bereit, Ihren Prozess zu betreiben. Sie müssen den Pumpenauslass anschließen, bei Bedarf Ihre Leitungsheizungen anschließen, Ihre Wasser-, Spül- und Elektroleitungen verlegen und dann alle Ihre Steuersignale vorbereiten. Sie müssen auch Doppelgehäuse, Gaslecksuche und die Durchführung von Leckprüfungen nach der Werkzeugwartung berücksichtigen. All diese Dinge kosten Sie Designzeit und Geld. Wir verstehen das Problem und haben integrierte, prozessspezifische Lösungen entwickelt.
Unsere integrierten Systeme sind bereits für die meisten Halbleiterprozesse vorkonfiguriert. Die Abgasheizungen sind auf die richtige Temperatur eingestellt, um die Kosten zu minimieren und die Betriebszeit zu maximieren. Wir setzen Leckkontrollanschlüsse und Absperrschieber dort ein, wo sie benötigt werden. Das gesamte System ist umschlossen und, was am wichtigsten ist, Sie müssen nur jeweils eines der erforderlichen Dienstprogramme bereitstellen. Wir verteilen die Gase, das Wasser, den Strom und die Steuersignale dort, wo sie gebraucht werden, und erstellen ein schlüsselfertiges System.
Der innovative Prozess der Extrem-Ultraviolett-Lithographie, in seiner Kurzform als EUVL oder EUV bekannt, ist die Lithographietechnologie der nächsten Generation, die führende Halbleiterchiphersteller bei der Herstellung der fortschrittlichsten Halbleiterkomponenten einsetzen wollen. Diese Technologie ist von historischer Bedeutung, da sie die kontinuierliche Erweiterung des Mooreschen Gesetzes ermöglicht. Die unmittelbare Herausforderung für EUV ist die Werkzeugverfügbarkeit. Unsere vollständig integrierte Sub-Fab-Lösung wird der EUV-Lithographie-Fertigung erhebliche Vorteile bringen. Mit über 10 Jahren Erfahrung in der Ermöglichung von EUV aus Sub-Fab-Perspektive streben unsere innovativen, führenden Technologielösungen und Systemisierungsfähigkeiten weiterhin danach, maximale Betriebszeit und Ausbeute von EUV-Prozessen in einer verwalteten sicheren Umgebung zu ermöglichen.
Wir verstehen die Herausforderungen voll und ganz
Nutzen Sie unsere globale Erfahrung, um den Erfolg Ihrer Kunden sicherzustellen
Höhere Durchflüsse bedeuten nicht größere Werkzeuge
Recycling/Wiederverwendung
Die Fähigkeit und Erfahrung, sich an Kundenanforderungen anzupassen. Double Flows bedeuten nicht die Verdopplung der Größe des systemerfahrenen Produktunternehmens, der Account-Teams, des Service-Supports und des globalen Know-hows
Regis (Reactive Gas Inject System) ist ein chemisches Reaktionssystem, das Remote-Plasma-Technologie verwendet, um die Lebensdauer der Pumpe zu verlängern.
Die neueste Generation von Regis verfügt über ein einzigartiges Reaktionskammerdesign, das sicherstellt, dass Prozessgase effizient umgesetzt werden, bevor sie in die Pumpe gelangen, wodurch die Lebensdauer der Pumpe auf mehr als 300 Tage verlängert wird.
Im Vergleich zur Vorgängergeneration Regis wurde die Stellfläche um 26,5 % reduziert. Das neue Regis-System in Verbindung mit Trockenvakuumpumpen der Serie für harte Beanspruchung bietet maximale Pumpenverfügbarkeit und Prozessstabilität für eine Reihe von Prozessen.
Funktionen und Vorteile:
ReGIS verlängert die Lebensdauer der Pumpe auf 300 Tage oder mehr
Optimierter NF3-Fluss mithilfe von FTIR-Studien zur Minimierung von CoO.
Reaktionseffizienz um 100 % gesteigert durch neues Reaktionskammerdesign.
Online-Dauerbetrieb.
Reduzierte Werkzeugstillstandszeiten durch häufigen Pumpenwechsel.
Tool Signal Control ReGIS Plasma-Zündungsfähigkeit.
Verbesserte Sicherheit.
Vollständige Systemüberwachung.
Kein Leistungsverlust.
Keine Änderungen im Leitwert.
