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T-Station 300

T-Station 300

Hochvakuum

Die T-Station 300 ist ein Pumpstand mit höherer Kapazität, der speziell für anspruchsvollere Anwendungen entwickelt wurde. Sein robustes Design und seine vielseitige Leistung haben ihn in Wissenschaft und Industrie und bei allen, die ein leistungsstarkes, benutzerfreundliches Vakuumsystem suchen, beliebt gemacht. Dieses Modell bietet ein Saugvermögen von bis zu 300 l/s, abhängig von der gewählten Variante.

Bis zu 300 l/s

Pumpstation mit höherer Kapazität gebaut

Stecker und Pumpe

Ein einziger Start-/Stopp-Knopf, mit automatischen Funktionen für eine sichere Nutzung

Kompakt

Kompakt mit niedrigem Profil für eine stabilere Einheit, die nicht umgestoßen werden kann

Robuste Konstruktion

Robuster Ganzmetallrahmen, der bei Gebrauch weder bricht noch reißt

Vorteile:

Robuster Ganzmetallrahmen, der auf Langlebigkeit ausgelegt ist und den vielfältigen Anforderungen von F&E-Labortests standhält.

Ideale Anwendungen:

Ihr kompaktes Design und ihre mobile Vielseitigkeit machen die T-Station 300 zur perfekten Wahl für:

Technische Daten

Einheit Einheit T-Station 85 T-Station 300
Saugvermögen kein N2
NW40 l/s 47 N/A
ISO63/CF63 l/s 84 N/A
ISO100/CF100 l/s N/A 300
Kompressionsverhältnis für N2 > 1 x 1011
Drehzahl der Vorvakuumpumpe @50 Hz
E2M1.5 m3/h 1,6
XDD1 m3/h 1,2
Ultimatives Vakuum
T-Station 85H trocken ISO63 mbar <5×10-8 N/A
T-Station 85H trocken CF63 mbar <5×10-9 N/A
T-Station 300 ISO100 mbar N/A <6×10-8
T-Station 300 CF100 mbar N/A <5×10-10
T-Station 85H nass ISO63 mbar <5×10-9 N/A
T-Station 85H nass CF63 mbar <5×10-10 N/A
Masse
mXDS3s kg 19 max 26 max
E2M1.5 kg 21 max K.A.
XDD1 kg 18 max K.A.
E2M1.5 CF100 kg N/A 29 max
XDD1 CF100 kg N/A 24 max
Einlassflansch DN 16 ISO – KF
Auspuff-Flansch
mXDS3s 1/8 BSP oder 6x8mm
E2M1.5 11 mm OD Düse oder 3/8 Zoll BSP
XDD1 Eingebauter Schalldämpfer oder 1/8 Zoll BSP
Geräuschpegel dB(A) 54.0 +/- 2.5
Betriebstemperaturbereich
Trockene Vakuumpumpen ºC +5 bis +40
Nass-Vakuumpumpen ºC +12 bis +40

S800

Kompakte harte PVD
Funktionsbeschichtung

Allgemeine Informationen

Beschichtungsarten

Testkammer

Anwendungen: Das angebotene Tischsystem ermöglicht das Erreichen und Aufrechterhalten eines Drucks, der einem O-Meter (Atmosphärendruck) entspricht, bis zu einer Höhe von 4000 Metern und darüber hinaus in einer Testkammer.

Atmosphärendruck-Simulator-Kammer

Hochvakuum-Pumpstände

Vakuumöfen backen, entgasen, erhitzen, trocknen und glühen Komponenten für die Elektronik-, Luft- und Raumfahrt- und Verteidigungsindustrie. Unsere Systeme sind in verschiedenen zylindrischen oder kubischen Konfigurationen erhältlich.

PLASMADIAM TURBOMOLEKULAR-PUMPSTATION:

Vakuum-Wärmebehandlungsofen

Wärmebehandlung zur Fixierung der Form der Spiralfeder. Die fixierende Wärmebehandlung wird unter den folgenden Bedingungen durchgeführt:

Vorteile von Vakuumöfen

Ultrahochvakuum-System Ausheizen

Vakuumöfen backen, entgasen, erhitzen, trocknen und glühen Komponenten für die Elektronik-, Luft- und Raumfahrt- und Verteidigungsindustrie. Unsere Systeme sind in verschiedenen zylindrischen oder kubischen Konfigurationen erhältlich.

Beispiel