Die integrierten Lösungen von Edwards berücksichtigen den gesamten Bedarf des Kunden an Vakuum- und Abgasmanagement, basierend auf unserer weltweiten Erfahrung und den fortschrittlichsten Technologien in diesem Bereich. Unsere integrierten Systeme bieten die Vorteile der Wiederholbarkeit von Produkten und Dienstleistungen sowie der Platzersparnis. Sie verbessern die Produktivität, die Sicherheit und die Umweltverträglichkeit. Unsere integrierten Systeme bieten auch direkte Vorteile wie schnellere Installation und Einrichtung, Größenvorteile und verbesserte Sicherheit.
EZENITH bietet ein fortschrittliches Portfolio an Systemen, die vollständig integrierte Vakuum- und Abgasmanagementlösungen für alle Ihre Anwendungen in der Halbleiterindustrie bieten. EZENITH-Systeme sind einzigartig in ihrem Angebot:
Mit nur einer Pumpe und einem Gasentfernungsgerät sind Sie noch nicht bereit, Ihren Prozess zu starten. Sie müssen die Pumpenabsaugung anschließen, Ihre Leitungsheizungen anschließen, Wasser-, Spül- und Stromleitungen verlegen und dann alle Steuersignale vorbereiten. Außerdem müssen Sie sich Gedanken über eine doppelte Einhausung, die Erkennung von Gaslecks und die Art und Weise machen, wie Sie nach der Wartung Ihrer Geräte Leckprüfungen durchführen wollen. All diese Dinge kosten Sie Entwicklungszeit und Geld. Wir verstehen das Problem und haben daher integrierte, prozessspezifische Lösungen entwickelt.
Unsere integrierten Systeme sind bereits für die meisten Halbleiterprozesse vordefiniert. Die Abluftheizungen sind auf die richtige Temperatur eingestellt, um die Kosten zu minimieren und die Betriebszeit zu maximieren. Wir bringen Leckagekontrollanschlüsse und Absperrschieber dort an, wo sie benötigt werden. Das gesamte System ist gekapselt und, was am wichtigsten ist, Sie müssen nur eine der erforderlichen Versorgungseinrichtungen bereitstellen. Wir verteilen die Gase, das Wasser, den Strom und die Steuersignale dort, wo sie benötigt werden, und erstellen ein betriebsbereites System.
Das innovative Verfahren der Extrem-Ultraviolett-Lithographie, das in seiner Kurzform als EUVL oder EUV bekannt ist, ist die Lithographie-Technologie der nächsten Generation, die führende Halbleiterhersteller bei der Herstellung der fortschrittlichsten Halbleiterkomponenten einsetzen wollen. Diese Technologie ist von historischer Bedeutung, da sie die weitere Ausdehnung des Mooreschen Gesetzes ermöglicht. Die unmittelbare Herausforderung für EUV ist die Betriebszeit der Werkzeuge. Unsere vollständig integrierte Sub-Fab-Lösung wird der EUV-Lithografie-Fertigung erhebliche Vorteile bringen. Mit mehr als 10 Jahren Erfahrung in der EUV-Fertigung in der Sub-Fab-Perspektive streben wir mit unseren innovativen, führenden Technologielösungen und Systemisierungskapazitäten weiterhin danach, eine maximale Betriebszeit und Ausbeute des EUV-Prozesses in einer sicheren Umgebung zu ermöglichen.
Wir verstehen die Herausforderungen
Nutzung unserer globalen Erfahrung für den Erfolg unserer Kunden
Höhere Ströme bedeuten nicht gleich größere Werkzeuge
Recycling/Wiederverwendung
Die Fähigkeit und Erfahrung, sich an die Anforderungen der Kunden anzupassen. Doppelte Flüsse bedeuten nicht die Verdoppelung der Größe des systemerfahrenen Produktunternehmens, der Kundenteams, des Service-Supports und der globalen Expertise
Regis (Reactive Gas Inject System) ist ein chemisch reagierendes System, das mit Hilfe der Remote-Plasma-Technologie die Lebensdauer der Pumpe verlängert.
Die neueste Generation der Regis zeichnet sich durch eine einzigartige Reaktionskammer aus, die sicherstellt, dass Prozessgase effizient umgesetzt werden, bevor sie in die Pumpe gelangen. Dadurch wird die Lebensdauer der Pumpe auf mehr als 300 Tage verlängert.
Im Vergleich zur vorherigen Regis-Generation wurde die Stellfläche um 26,5% reduziert. Das neue Regis-System in Verbindung mit den trockenen Vakuumpumpen der Serie für den harten Einsatz bietet maximale Pumpenbetriebszeit und Prozessstabilität für eine Reihe von Prozessen.
Merkmale und Vorteile:
ReGIS verlängert die Lebensdauer der Pumpe auf 300 Tage oder mehr
Optimierter NF3-Fluss mit Hilfe von FTIR-Studien zur Minimierung von CoO.
Die Reaktionseffizienz wurde durch das neue Design der Reaktionskammer um 100% erhöht.
On-line Dauerbetrieb.
Geringere Ausfallzeiten aufgrund häufiger Pumpenwechsel.
Werkzeugsignalsteuerung ReGIS Plasmazündung möglich.
Verbesserte Sicherheit.
Vollständige Systemüberwachung.
Keine Leistungseinbußen.
Keine Veränderung der Leitfähigkeit.
+41 (0)32 926 26 06
info@plasmadiam.com
Jambe-Ducommun 19 – 2400 Le Locle
