document.addEventListener('DOMContentLoaded', function() {
jQuery(function($){
var mywindow = $(window);
var mypos = mywindow.scrollTop();
mywindow.scroll(function() {
if (mypos > 40) {
if(mywindow.scrollTop() > mypos) {
$('#stickyheaders').addClass('headerup');
} else {
$('#stickyheaders').removeClass('headerup');
}
}
mypos = mywindow.scrollTop();
}); }); });
#stickyheaders{
-webkit-transition: transform 0.34s ease;
transition : transform 0.34s ease;
}
.headerup{
transform: translateY(-110px); /*adjust this value to the height of your header*/
}
Remplissez votre formulaire RMA
Déclaration de contamination - Formulaire HS2
Lisez et suivez la procédure HS2 avant de remplir cette déclaration. Cette déclaration ne peut être remplie et signée que par du personnel autorisé et qualifié. Si vous avez besoin d’aide pour remplir ce formulaire, veuillez contacter le service des ventes ou le service clientèle de votre région.
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Dimensions de la chambre à vide : L800 x P800 x H1,150 mm
Capacité de la chambre à vide : 730 l
En utilisant le volume de plasma : D=550 x H720
Cible : 727×178×18 mm (3Set) - 200/400/400A
Plateau tournant : D436 × H727 mm
Puissance : 3×400V/120 kW
Logiciel : Système PC industriel Système de diagnostic et de description simple et facile Diagnostic à distance par machine de données ou IP
Types de revêtement
Revêtement standard : TiN, CrN, TiCN, TiAlN, AlTiN, etc.
Les recettes peuvent être sélectionnées : AlCrN, TiAlSiN, AlCrTiN, DLC, etc.
Capacité (24H)
Fraise : D6×50 mm = 1 800×5 = 9 000 pces - D16×95 mm = 450×5= 2 250 pces
Insertion : D20×H6 mm = 2,340×5 = 11,700 pces
Plaques de cuisson : D80×180 mm =24×5= 120 pièces
Chambre d'essai
Applications : Le système de table proposé permet d’atteindre et de maintenir des pressions équivalentes à un mètre « O » (pression atmosphérique) jusqu’à des niveaux élevés tels que 4000 mètres et au-delà, à l’intérieur d’une chambre d’essai.
Chambre de simulation de la pression atmosphérique
Contrôleur de vide programmable
Stations de pompage à vide poussé
Les étuves à vide permettent de cuire, dégazer, chauffer, sécher et recuire des composants pour les industries de l’électronique, de l’aérospatiale et de la défense. Nos systèmes sont disponibles en plusieurs configurations cylindriques ou cubiques.
Choix de la pompe turbomoléculaire avec des vitesses allant de 85 à 930 ls-1
Choix de pompes de refoulement sèches avec des capacités allant de 6 à 90 m3h-1
Four de traitement thermique sous vide
Traitement thermique pour fixer la forme du ressort spiral. Le traitement thermique de fixation est effectué dans les conditions suivantes :
Entre 10-7 mbar et 10-5 mbar, dans une atmosphère inerte
Température entre 400°C et 1000°C
Durée entre 1h et 6h
Avantages des fours à vide
Chauffage contrôlé
Processus reproductible
Haute efficacité
Chauffage et refroidissement de Fasting
Groupe de pompage à vide élevé
Système à ultravide Bake Out
Les étuves à vide permettent de cuire, dégazer, chauffer, sécher et recuire des composants pour les industries de l’électronique, de l’aérospatiale et de la défense. Nos systèmes sont disponibles en plusieurs configurations cylindriques ou cubiques.
